05.02.2024 – 07.02.2024

Новосибирск, Россия 

 

 

Организаторы

 

Институт неорганической химии им. А.В. Николаева СО РАН

 

В программу семинара включены следующие темы:

 

1. Фундаментальные основы процессов CVD (химия газовой фазы и поверхности, механизмы реакций, кинетика, моделирование, взаимосвязь структуры и свойств).

2. Новые исходные вещества для процессов CVD: синтез, очистка и характеризация.

3. Новые направления в развитии технологии CVD (активированные процессы, ALD, гибридные технологии и др.)

4. Новые материалы и сложные структуры, полученные в процессах CVD (однородные и градиентные слои, напряженные слои, структуры различной архитектуры: нанотрубы, нанонити, нанокомпозиты, наночастицы, квантовые точки и т.д.).

5. Диагностика пленок и покрытий, контроль процессов CVD (контроль процессов превращений компонентов газовой фазы, состояние образующихся фаз, функциональные характеристики слоев и структур).

6. CVD: путь от лаборатории к промышленной технологии.

7. Применение процессов CVD (микро, нано- и оптоэлектроника, химические сенсоры, катализ, производство энергии, оптические и защитные покрытия и др.).

 

Планируется проведение специальной сессии «Тонкие пленки и наноструктуры, полученные магнетронным распылением: рост, характеризация, моделирование».

 

К участию в семинаре приглашаются ученые и специалисты предприятий, преподаватели, научные сотрудники, аспиранты и студенты высших учебных заведений.

 

Программа

 

Сборник тезисов

 

Подробно